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6 月 15 日，《日经亚洲评论》报道称，日本将与美国合作，最早于 2025 年在日本本土建成 2nm 芯片制造基地，以便加入下一代芯片技术的商用化竞争。该报道提到，日美两国政府将根据双边芯片技术pg电子最新网站入口的合作伙伴关系提供支持，两国民间企业将在设计和量产方面进行研究。

《日经亚洲评论》报道截图

目前，台积电在芯片先进制程上处于全球领先地位，计划 2025 年量产 2nm 工艺，但该公司通常不会把最先进的工厂建在台岛以外。过去两年，台积电相继宣布在美国和日本建设芯片工厂，其中美国工厂计划在 2024 年量产 5nm，日本工厂计划在 2024 年量产 10nm 至 20nm 芯片。

日经亚洲报道称，日本希望通过在本土生产新一代半导体，确保稳定供应。为实现这一目标，日本和美国企业有望联合成立新公司，或者日本企业可以建立一个新制造中心。日本经济产业省将补贴部分研发费用和资本支出。该报道提到，日美最早将于今年夏天开始共同研究，并在 2025 -2027 年之间建立研究和量产中心。" 日本拥有信越化学和 sumco 等实力强劲的芯片材料制造商，而美国拥有芯片制造设备巨头应用材料，芯片制造商和主要供应商之间的合作旨在实现 2nm 芯片的量产技术。" 该报道称。

日媒的预期很美好，但客观来说，现在谈论 2nm 制程可能有些为时过早，毕竟台积电和三星的 3nm 还未实现量产。